Villain博客《真空镀膜行业中，氩气的流量大小具体如何控制?》正文开始，本次阅读大概6分钟。
如果是说镀膜时为了调节压力使用的气体 个人认为如下： 氩气如果只是调节压力，一次压可以不计，但是二次压要小于0.5个大气压。氮气也是，主要是因为如果大了，会导致真空仓内的压力变化太剧烈，导致误差。 如果是使用离子源，那么氩气入气量不宜过大，大了导致离子量过大，烧坏部件。压力和上边没什么差别。
真空镀膜行业中，氩气的流量大小具体如何控制?
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本文标题：真空镀膜行业中，氩气的流量大小具体如何控制?
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